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针对MEMS器件和光电器件的薄膜结构在高温下产生的应力与应变会严重影响器件结构与功能的问题,本文采用Suhir异质生长薄膜热应力计算理论分析了三层薄膜结构的热应力大小分布情况,得到了不同镀膜温度、膜厚、基底厚度等条件下的热应力变化趋势,解决...
采用磁控溅射技术在硅基底上交替沉积WSx、W以及DLC膜层制备WSx/W/DLC/W多层膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等对多层膜的微观结构和力学性能进行了表征,使用球盘式摩擦磨损试验机测试了多层膜在大气中的摩擦学性能。结果表明:...
用脉冲激光沉积法在（110）取向的SrTiO3（STO）单晶衬底上制备了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3/NiFe2O4/La0.7Sr0.3MnO3（PZT/NFO/LSMO）磁电复合外延薄膜,并用X射线衍射和透射电镜技术研究了外延薄...
010-56259535
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